在痕量分析、半导体工艺等精密实验中，器皿清洗的洁净度直接决定样品纯度与检测精度。PFA 酸缸清洗槽凭借材质特性，成为强腐蚀场景下器皿清洗的优选工具。

一、传统清洗容器的四大痛点

溶出污染：玻璃遇氢氟酸易溶解释硅、铝离子，干扰 ICP-MS 检测；普通塑料析出杂质，影响痕量分析结果。

耐腐性差：普通塑料酸缸不耐王水、魔酸等强腐蚀试剂，高温下易变形泄漏；玻璃则易炸裂引发安全风险。

残留难清：内壁粗糙或有接缝，易吸附酸液与样品残渣，清洗不彻底导致交叉污染。

观察不便：不透明材质无法直观判断清洗进度，且密封性差，酸雾挥发污染环境。

二、PFA 酸缸清洗槽的核心优势

超低本底无干扰：金属离子（铅、铀等）空白值＜0.01ppb，化学惰性极强，耐强酸、强碱、氢氟酸及有机溶剂，260℃下无任何溶出。

耐温抗腐防泄漏：耐温范围 - 200℃至 260℃，可适配高温清洗与低温浸泡；一体成型无接缝设计，彻底杜绝漏液风险。

易观察好清洗：半透明外观便于观察槽内试剂状态与清洗进度；内壁光滑无毛刺，结合 PFA 不粘性，稀酸或纯水冲洗即可洁净，无残留吸附，可配盖子，防止粉尘污染与酸雾挥发。

三、规格选型与典型应用

适配微波消解罐、坩埚、试剂瓶等小型器皿清洗，性价比高。

用于半导体硅片、芯片花篮等大型物件批量清洗，可搭配多通道设备提升效率。

典型应用：痕量分析实验室器皿除杂、半导体行业硅片腐蚀清洗、同位素分析器皿预处理等。

四、使用与维护技巧

首次使用：用纯水冲洗后，可加稀硝酸浸泡钝化，去除表面残留杂质。

操作规范：接触强腐蚀试剂需在通风橱内进行，配套盖子减少酸雾挥发；避免硬物碰撞槽体以防划痕。

清洗维护：日常用弱碱洗涤剂加热清洗除有机残留，深度清洗可短时间浸泡王水；禁用硬刷擦拭，晾干后存放于干燥环境。